Редакция Наука Mail пообщалась с физиком Александром Соловьевым, который участвует в разработке российского литографа на длине волны 11,2 нм — ключевой технологии для микроэлектроники.
В разговоре обсуждалось, какие технологические решения лежат в основе аванпроекта литографа и почему именно диапазон 11,2 нм рассматривается как перспективный. Эксперт также прокомментировал, чем этот подход отличается от более традиционной длины волны 13,5 нм и как сегодня выглядит конкуренция с зарубежными разработками.
Отдельное внимание было уделено перспективам перехода от демонстратора к серийному производству: какие барьеры могут возникнуть на этом пути и сколько времени может занять масштабирование технологии. Кроме того, обсуждался кадровый вопрос — хватает ли специалистов для разработки и производства литографов и какую роль в подготовке кадров могут сыграть университеты.
О том, когда можно ждать массового появления водородного транспорта в России, как будет развиваться электротранспорт и почему новые проводящие материалы так сложно довести от эксперимента до рабочих устройств можно узнать из другого нашего интервью.
