Новую технологию формирования ультратонких золотых пленок для устройств нанофотоники и оптоэлектроники разработали ученые из Сибири и Дальнего Востока. Такой метод позволяет получать пленки толщиной около 5 нанометров при обычных температурных условиях без использования высокотемпературной обработки. Об этом сообщили в пресс-службе Института теплофизики СО РАН.
Исследование стало результатом сотрудничества Института теплофизики СО РАН с Дальневосточным федеральным университетом, ИАПУ ДВО РАН и Институтом физики полупроводников им. А.В. Ржанова. Они применили метод импульсного лазерного осаждения в кислородной среде. Такой способ позволяет формировать тонкие слои золота с хорошими оптическими и проводящими свойствами.
Согласно данным исследователей, новые пленки обладают высокой прозрачностью в видимом диапазоне (до 72%), низким поверхностным сопротивлением (30 Ом/кв) и высокой добротностью (0.55 Ом⁻¹/10). Эти параметры делают их перспективными для применения в прозрачных электродах, гибких дисплеях, солнечных элементах и оптических метаматериалах.
Как отметили в пресс-службе, исследование финансировалась за счет гранта Российского научного фонда. Научные результаты опубликованы в журнале Applied Surface Science.
Ранее мы писали об ученых, которые смогли согнуть керамику.
