чип

Китай открыл первую линию для производства чипов нового типа

В Поднебесной разработали альтернативную технологию производства 2D-чипов, которая выведет полупроводниковую промышленность на новый уровень.
Автор Наука Mail
Наноразмерный чип
Современные транзисторы, которые являются функциональной основой процессоров, достигли размеров в 3–5 нанометров. Дальнейшая миниатюризация уже проблематичнаИсточник: circuitdigest.com

Шанхайская компания Yuanjiwei представила первую в мире пилотную 8-дюймовую производственную линию для выпуска 2D-полупроводников. В будущем ее планируют использовать для производства чипов, сопоставимых с 5-нанометровыми, причем без установок для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, сообщает South China Morning Post.

Современная полупроводниковая промышленность ищет новые способы производства чипов, поскольку возможности традиционных кремниевых микросхем постепенно подходят к физическому пределу. По мере уменьшения размеров транзисторов растет утечка тока: небольшое количество электричества продолжает проходить через них даже в выключенном состоянии. Это увеличивает энергопотребление и приводит к дополнительному нагреву.

Одним из наиболее перспективных решений считаются 2D-полупроводники. Их материалы имеют толщину всего в несколько атомов, поэтому транзисторы можно делать еще меньше без усложнения конструкции. Кроме того, такие чипы отличаются гораздо меньшей утечкой тока, что позволяет снизить энергопотребление. В сочетании с технологиями вроде 3D-стекинга это также может увеличить плотность размещения элементов и емкость микросхем памяти.

Чип с 2D-транзисторами
2D-материалы помогут добиться рекордной плотности размещения транзисторовИсточник: Nanjing University

До конца года Yuanjiwei рассчитывает отработать на новой линии производственный процесс, соответствующий кремниевому 90-нанометровому техпроцессу. Это станет первым шагом к переходу от лабораторных экспериментов к промышленному производству.

К 2029 году компания рассчитывает освоить полностью отечественную технологию производства чипов, сопоставимых с современными 5-нанометровыми. Для этого она намерена отказаться от установок экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, которые сегодня считаются ключевым оборудованием для передовых техпроцессов, и использовать многократное экспонирование в DUV-диапазоне с длиной волны 193 нм.

Ранее Наука Mail писала, что новый миниатюрный датчик поможет сделать квантовые компьютеры мощнее.